ALD装置とは？菅製作所の小型ALD装置は４種類！それぞれの特徴とおすすめポイントをご紹介！
目次
ALD装置とは
ALD装置はAtomic Layer Deposition Systemの頭文字を取ったもので、原子層堆積装置のことです。 一原子層毎の精密な成膜プロセスで使用します。原子層１層枚の均一なコントロールを行い、高膜質・段差被膜性の高い成膜が可能です。
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ということで、お仕事調査隊員が菅製作所様のALD装置をご紹介します！！
菅製作所の小型ALD装置は
・SAL1000
・SAL1000B
・SAL1000G
・SAL3000
の４種類！
特徴とおすすめポイントをご紹介！
SAL1000
ALD装置のエントリーモデル
手軽に1原子層ずつの薄膜をつくれる
おすすめポイント
- 使いやすさを重視した小型のALD
- 1種類の膜種を成膜する最低限の構成仕様
- デモ機によるテスト成膜が可能
本体寸法
W450mm×D450mm×H410mm
SAL1000B
粉体への全周囲成膜を可能にしたALD
卓上型の研究開発用成膜装置
おすすめポイント
- 傾斜＋回転＋振動で粉体へ成膜可能
- 傾斜角度は水平から45°まで調節可能
- 実は4インチの基板も成膜もできる
本体寸法
W582mm×D450mm×H410mm
SAL1000G
ウェハーまたは粉体への成膜が可能
機能と性能を兼ね備えた卓上型ALD
おすすめポイント
- 真空置換対応のグローブボックス搭載
- 嫌気性のサンプルや材料に対応
- オプションで粉体への成膜が可能
本体寸法
W690mm×D590mm×H760mm
SAL3000
小型で機能充実のALD
おすすめポイント
- SAL3000標準型から横幅が4割小型化
- 成膜方向はデポアップかダウンを選択
本体寸法
W835mm×D700mm×H1644mm
以上、簡単におすすめポイントをご紹介しました！
こんなかっこいい紹介動画もあります、ご覧ください。
菅製作所様のサイトに特徴など詳しく紹介した記事があります。
ぜひご覧ください！
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