原子一層レベルで膜を積み上げるALD装置は、次世代デバイスの研究に欠かせません。しかし、メーカーによって「小型化が得意」「プラズマが使える」「粉が得意」など、特徴は様々です。

この記事では、研究現場でよく選ばれる6社をピックアップし、それぞれの強みをシンプルに整理しました。

※各メーカーの情報は2026年4月時点の公開情報を基にしています。詳細な仕様や最新情報については、各社公式サイトよりお問い合わせください。

【日本】菅製作所｜世界に一台を共に創り上げる、研究者の最良のパートナー

北海道を拠点とする菅製作所は、研究開発用真空装置のカスタマイズにおいて圧倒的な柔軟性を誇るメーカーです。

同社のALD装置は、高性能な成膜能力を維持しながら、大学の研究室などスペースが限られた現場にもフィットするコンパクトな設計が大きな強みです。

ALDの成膜プロセスは、よく「精密なレゴブロックの組み立て」に例えられます。

特定の場所にしか結合しない分子を順番に供給し、原子を一層ずつ積み上げていくこの作業には、極めて緻密な制御が求められます。

菅製作所はこの繊細なプロセスを、研究者一人ひとりのこだわりに合わせて具現化してくれます。

会社名	株式会社菅製作所
研究開発対応	対応可
カスタマイズ	対応可（要相談）
装置導入後の改造	対応可
方式	サーマルALD（熱ALD）
特徴・強み	省スペース設計と抜群の拡張性。研究環境に合わせた個別設計が得意
テスト成膜	可（要相談）
公式サイト	https://agus.co.jp/

【日本】サムコ｜独自のプラズマ技術で「低温成膜」の課題を解決

京都に本社を置くサムコは、半導体プロセス装置の国内トップランナーです。同社の強みは、独自の「トルネードICP方式」を用いたプラズマALD技術にあります。

通常の熱ALDでは成膜に高温が必要となりますが、サムコの技術なら、熱に弱い樹脂基板や次世代デバイス用の有機材料に対しても、低温で高品質な膜を形成することが可能です。

会社名	サムコ株式会社
研究開発対応	対応可
カスタマイズ	一部対応可
装置導入後の改造	対応可
方式	サーマルALD（熱ALD） / プラズマALD
特徴・強み	低温での高品質成膜
テスト成膜	可（要相談）
公式サイト	https://www.samco.co.jp/

【アメリカ】ANRIC THECNOLOGIES｜グローブボックスに収まるコンパクトサイズ

アメリカのANRIC TECHNOLOGIESは、ベンチトップ型の非常にコンパクトなALD装置で知られています。

最大の特徴は、手袋越しに作業を行うグローブボックスの中にそのまま設置できるほどの小ささです。機能を絞り込んだシンプルな操作性は、学生が主体となる大学の研究室でも高く評価されています。

会社名	Anric Technologies
研究開発対応	対応可
カスタマイズ	一部対応可
装置導入後の改造	要相談
方式	サーマルALD（熱ALD） / プラズマALD
特徴・強み	高性能かつ世界最小クラスのサイズ
テスト成膜	可（要相談）
公式サイト	https://www.anrictechnologies.com/

【アメリカ】VEECO｜世界中の研究者が認める名高いメーカー

ALD研究の世界で最も名高いメーカーの一つです。

同社の「Savannah」や「Fiji」シリーズは、世界中の大学や政府系機関で導入されており、論文実績数は圧倒的です。

最大の強みは、平面基板だけでなく複雑な3D基板に対しても、再現性の高い高精度な成膜が可能な点です。

薄膜のニーズに合わせて、固体・液体・気体のあらゆるプロセス化学に柔軟に対応します。

会社名	VEECO
研究開発対応	対応可
カスタマイズ	豊富なオプションあり
装置導入後の改造	対応可
方式	サーマルALD（熱ALD） / プラズマALD
特徴・強み	平面基板だけでなく複雑な3D基板にも対応可能
テスト成膜	可（要相談）
公式サイト	https://www.veeco.com/

【アメリカ】Forge Nano｜粉体成膜を革新する独自の空間ALD技術

Forge Nanoは、平面ではなく、リチウムイオン電池の電極材料などの粉体へのALD成膜において、世界をリードする技術を持っています。

粒子一つひとつを原子レベルで均一にコーティングする技術は、次世代電池の長寿命化や触媒の性能向上に直結します。

会社名	Forge Nano
研究開発対応	対応可
カスタマイズ	プロセスに応じたフルカスタム対応可
方式	サーマルALD（熱ALD） / 空間ALD
特徴・強み	研究から量産へのスムーズな移行支援が可能
テスト成膜	可（要相談）
公式サイト	https://www.forgenano.com/

【中国】CN-1｜ハイスペックと高コスパを両立するアジアの注目メーカー

CN-1は、中国・韓国の半導体市場を中心に急成長しているメーカーです。

最新の半導体プロセスに対応した高い均一性を持ちながら、欧米メーカーに比べて導入コストを抑えたラインナップが特徴です。

「予算は限られているが、将来の量産に近い環境を研究室に作りたい」という実利的なニーズに応えています。

アジア圏でのサポート体制も強化されており、近年、日本国内でも注目度が上がっているメーカーです。

会社名	CN-1
研究開発対応	対応可
カスタマイズ	部分的なオプション可能
方式	サーマルALD（熱ALD） / プラズマALD
特徴・強み	優れたコストパフォーマンスと成膜均一性
テスト成膜	可（要相談）
公式サイト	https://www.cn-1.co.kr/index.php

まとめ

ALD装置は原子一層を制御するという特性上、単なるスペック以上に、メーカーの設計思想とサポート体制が研究の成否を分けるともいえます。

限られたスペースで実験したい、スパッタなど他の装置と繋いで大気非曝露で実験したいという、日本の研究現場ならではの切実な悩みがあるなら、菅製作所がもっとも頼りになるパートナーになるはずです。

各社とも、自社のサンプルで実際に塗ってみる「テスト成膜」を受け付けています。まずは理想の膜が得られるかどうか、問い合わせてみることから始めてみてはいかがでしょうか。